碳化铬靶材Cr3C2磁控溅射靶材

科研实验**碳化铬靶材Cr3C2磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
       碳化铬（Cr3C2）为灰色粉末，有金属光泽；斜方晶系；密度为6.68g/cm³，熔点：1890℃，沸点：3800℃；在高温环境下（1000~1100℃）具有良好的耐磨、耐腐蚀、抗氧化性能；属于金属陶瓷。用作硬质合金的晶粒细化剂及其他耐磨、耐腐蚀元件；以Cr3C2为基的金属陶瓷在高温下有较优异的抗氧化性能；粗粒碳化铬作为熔喷材料在金属及陶瓷表面形成熔喷覆膜，赋予后者以耐磨、耐热、耐蚀等性能，广泛用于飞机发动机及石油化工机械器件上，以大大提高机械寿命；亦用于喷制半导体膜。
产品参数
中文名 碳化铬         化学式 Cr3C2        分子量 180.01
熔点 1890℃            沸点 3800℃         密度 6.68g/mL
纯度 99.9%
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后**！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
       陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
       我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
       注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度**过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
       建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不**过3W/cm2。