氟化钙靶材CaF2磁控溅射靶材

科研实验**氟化钙靶材CaF2磁控溅射靶材电子束镀膜镀膜蒸发料
产品介绍
     氟化钙（CaF2）为无色结晶或白色粉末，难溶于水，微溶于无机酸，不溶于丙酮，自然界的氟化钙矿物为萤石或氟石，常呈灰、黄、绿、紫等色，有时无色、透明，有玻璃光泽，性脆，有显着荧光现象；密度：3.18g/cm³，熔点：1423℃， 沸点：2500℃，低毒。目前主要用于冶金、化工和建材三大行业；其次用于轻工、光学、雕刻和*工业；非常纯的氟石用来制作特种透镜；萤石主要用作冶炼金属的助熔剂；萤石也广泛应用于玻璃、陶瓷、水泥等建材工业中。
产品参数
中文名 氟化钙       化学式 CaF2      分子量 78.08
熔点 1423℃         沸点 2500℃      密度 3.18g/cm3
纯度 99.99%
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后**！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
       我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
       注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度**过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
       建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不**过3W/cm2。