氧化硼靶材B2O3磁控溅射靶材

科研实验**氧化硼靶材B2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
     氧化硼，化学式：B2O3，又称三氧化二硼，是硼较主要的氧化物。它是一种白色蜡状固体，一般以无定形的状态存在，很难形成晶体，但在高强度退火后也能结晶。熔融时可以溶解许多碱性的金属氧化物，生成有特征颜色的玻璃状盐和偏盐（玻璃），用于制取元素硼和精细硼化合物。也可与多种氧化物化合制成具有特征颜色的硼玻璃、光学玻璃、耐热玻璃、仪器玻璃及玻璃纤维、光线防护材料等。还可用作油漆的耐火阻烯添加剂和干燥剂。
产品参数
中文名氧化硼      英文名Boron trioxide
别称三氧化二硼    化学式B2O3
分子量69.62CAS    登录号1303-86-2EINECS
登录号215-125-8
密度（g/mL，25/4℃）： 1.812（无定形）、2.46（结晶）
熔点（ºC）：,450℃（结晶）
沸点（ºC，常压）：1860
溶解性：溶于水，成为。溶于酸、碱溶液
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后**！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
       陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
       我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
       注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度**过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
       建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不**过3W/cm2。