氧化镍靶材NiO磁控溅射靶材

科研实验氧化镍靶材NiO磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

     氧化镍（NiO）为绿色末状固体，熔点：1980±20℃，密度：6.67g/cm³，不溶于水，不溶于碱液，为碱性氧化物，溶于酸和氨水。用作搪瓷的密着剂和着色剂，陶瓷和玻璃的颜料。在磁性材料生产中用于生产镍锌铁氧体等，以及用作制造镍盐原料、并在冶金、显像管中应用。用作电子元件材料、催化剂、搪瓷涂料和蓄电池材料。
产品参数
中文名 氧化亚镍            化学式 NiO
分子量 74.71               熔点 1984℃
密度 6.67g/cm
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后**！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
       我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
       注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度**过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
       建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不**过3W/cm2。