钨靶材W磁控溅射靶材

科研实验**钨靶材W磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
      钨（W）经过冶炼后的是银白色有光泽的金属，熔点较高，蒸气压很低，蒸发速度也较小，化学性质也比较稳定硬度高，常温下不受空气侵蚀；约50%用于优质钢的冶炼，约35%用于生产硬质钢，约10%用于制钨丝，约5%其他用于其他用途。钨火箭推进器的喷嘴、切削金属的刀片、钻头、超硬模具、拉丝模等等，钨的用途十分广泛，涉及矿山、冶金、机械、建筑、交通、电子、化工、轻工、纺织、**、航天、科技、各个工业领域。
产品参数
中文名称：钨  化学式 W
沸点 5555℃   熔点 3422℃
密度 19.25g/cm3
支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！ 
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后**！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备 
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。 
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库